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海角HJKCF.NOM技术说明

2022-06-15 11:08:24
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海角HJKCF.NOM技术可制备装饰薄膜、硬质薄膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜，以及各种具有特殊功能的薄膜，是一种十分有效的薄膜沉积方法，在各个工业领域应用非常广泛。 

“溅射”是指具有一定能量的粒子（一般为Ar+离子）轰击固体（靶材）表面，使得固体（靶材）分子或原子离开固体，从表面射出，沉积到被镀工件上。海角HJKCF.NOM是在靶材表面建立与电场正交磁场，电子受电场加速作用的同时受到磁场的束缚作用，运动轨迹成摆线，增加了电子和带电粒子以及气体分子相碰撞的几率，提高了气体的离化率，提高了沉积速率。

海角HJKCF.NOM技术比蒸发技术的粒子能量更高，膜基结合力更好，“海角HJKCF.NOM离子镀膜技术”就是在普通海角HJKCF.NOM技术的基础上，在被镀工件表面加偏压，金属离子在偏压电场的作用力下，沉积在工件表面，膜层质量和膜基结合力又远远好于普通的海角HJKCF.NOM镀膜技术。


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 根据靶材的形状，海角HJKCF.NOM靶可分为圆形海角HJKCF.NOM靶、平面海角HJKCF.NOM靶和柱状海角HJKCF.NOM靶。圆形靶主要用于科研和少量的工业应用，平面靶和柱状靶在工业上广泛使用，特别是柱状靶，凭借高的靶材利用率和稳定的工作状态，越来越多的被使用。

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